测高分子分子量，x射线光电子能谱分析(xps)

高分子材料的特殊制样方法

聚焦离子束技术（Focused Ion beam，FIB）是近年来发展起来的新技术，它是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面，实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。聚焦离子束技术（FIB）采用高强度聚焦离子束将材料纳米加工并结合高倍数电子显微镜进行实时观测，已成为纳米级分析，制造的主要手段。为确保样品纯度且不受环境及人为制样处理污染，通常采用FIB制样。

FIB作为制样方法之一，相较于人工制样过程中人为影响因素众多等不足，FIB可以观测样品缺陷和基材之间界面状况，使用FIB便可实现切割的**定位，并在缺陷部位制备截面样品充分满足制样要求。聚焦离子束（FIB）技术是利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，实现样品表面分子和元素种类的空间分布信息，成为了纳米级分析、制造的主要方法。

样品要求

1．粉末样品基本要求

（1）单颗粉末尺寸好小于1μm；

（2）无磁性；

（3）以无机成分为主，否则会造成电镜严重的污染，高压跳掉，甚至击坏高压枪；

2．块状样品基本要求

（1）需要电解减薄或离子减薄，获得几十纳米的薄区才能观察；

（2）如晶粒尺寸小于1μm，也可用破碎等机械方法制成粉末来观察；

（3）无磁性；

（4）块状样品的准备工作繁杂，费时，过程繁多，需有经验丰富的教师进行引导或准备；样品准备得好与坏，直接影响后文电镜观察与分析。因此块状样品在准备前好先跟TEM教师交流咨询或者交教师准备。