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caf失效分析测试,304的盐雾试验

更新时间
2024-12-01 11:00:00
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详细介绍

caf失效分析测试,304的盐雾试验

短路

(暗电流增大) ESD 确认芯片漏电流是否增大;

使用光辐射显微镜(EMM)可确认漏电位置;

离子迁移分析;

EOS

银离子迁移

CMOS闩锁效应(VDD≥Vh)

间歇短路 CMOS闩锁效应(VDD<Vh) ——

系统错误 老化(浴盆曲线后端)(趋于劣化) ——

制造工艺(趋于劣化)

复位 EMC干扰 示波器抓取MCU复位引脚信号;

调试器查看复位标志位等信息;

NTC 开路 持续过电压/过电流 万用表阻抗测试

阻值增大 持续过电压/过电流 万用表阻抗测试

短路 长时浪涌电流引起异常温升,阻值下降导致电流进一步增大,恶性循环,终导致焊接融化、线融化、电极扩散、NTC元件本体发红发热、融化、烧蚀。 万用表阻抗测试

阻值突然下降 短时浪涌电流引起异常温升 示波器抓取电压波形

绝缘异常 耐压击穿; 绝缘电阻测试;

耐压测试;

目视检查;

生产缺陷;

线束/连接器 PIN开路、接触阻抗增大、接触不良 母端扩孔不良(弹片变形,接触劣化); 万用表阻抗测试;

剖面分析;

电压降测试(测试接触电阻);

X-Ray;

线束压接不良(压接处线束绝缘皮未剥开,接触劣化); 瞬断测试设备;

公端退PIN; 放大镜检查

端子内有非金属异物; 放大镜检查;

X-Ray;

线束断开; 万用表测试线束是否导通

卡扣尺寸不良致接触劣化; 万用表阻抗测试;

剖面分析;

电压降测试(测试接触电阻);

X-Ray;

氧化; 放大镜观察;

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