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横向低倍组织均匀细小，晶粒度为GB/T 3246.2 -2012 的一级，在横向低倍试块中心处(探伤缺陷埋深位置)发现一长约3mm 的黑色短线状缺陷。除此之外，无疏松、非金属夹杂、异金属夹杂、白斑、缩尾、气孔等其他肉眼可见的冶金缺陷。

在低倍试块上划定高倍试块取样位置(红圈为缺陷位置)，如图3 所示。

图3 高倍取样位置

将横向高倍试块经磨制抛光和腐蚀(腐蚀剂为HF:HCl:HNO3:H2O=2:3:5:190)后，观察高倍组织如图4 所示。

从图4 中高倍组织图上可以看出，缺陷呈黑色不连续短线状包留物、涡纹状，缺陷处晶粒均匀细小，除此之外无化合物聚集及过热、过烧现象。