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电化学阻抗测试,激光粒度分析法测粒度
发布时间:2025-01-28

电化学阻抗测试,激光粒度分析法测粒度

湿法测定:湿法测定的检测下限通常为20nm。

  根据供试品的特性,选择适宜的分散方法使供试品分散成稳定的混悬液;通常可采用物理分散的方法如超声、搅拌等,通过调节超声功率和搅拌速度,必要时可加入适量的化学分散剂或表面活性剂,使分散体系成稳定状态,以保证供试品能够均匀稳定地通过检测窗口,得到准确的测定结果。

  只有当分散体系的双电层电位(ζ电位)处于一定范围内,体系才处于稳定状态,因此,在制备供试品的分散体系时,应注意测量体系ζ电位,以保证分散体系的重现性。

  湿法测量所需要的供试品量通常应达到检测器遮光度范围的8%~20%;最先进的激光粒度仪对遮光度的下限要求可低至0.2%。

  (2)干法测定:干法测定的检测下限通常为200nm。


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